Über 18,6 Milliarden Euro Jahresumsatz, fast 6 Milliarden Euro Gewinn und volle Auftragsbücher – ASML steigt weiter auf. Noch einmal 5 Milliarden Euro entfielen als Umsatz auf das letzte Quartal, einhergehend auch 1,7 Milliarden Euro Gewinn. Doch in den Fokus rückte zuletzt die Zukunftsplanung und das Feuer in Berlin.
Zum Feuer in Berlin konnte ASML gute Nachrichten verbreiten und erwartet nun keine großen Auswirkungen auf die EUV-Produktion. Dafür spricht auch die Vorschau auf das gesamte Jahr, 20 Prozent Umsatzwachstum mit hohen Margen. Mit einer neuen Buchungsweise bei EUV-Systemen kann ASML die Auswirkungen jedoch etwas verschleiern. Denn diese werden nun erst zu ASMLs Umsatz gezählt, wenn sie beim Kunden qualifiziert wurden und Wafer produzieren. Das sorgt bereits in diesem Quartal dafür, dass rund 2 Milliarden Euro auf die kommenden Monate verteilt werden. Am Jahresende könnten so sechs EUV-Systeme zwar ausgeliefert werden, aber nicht in der Buchung auftauchen – und so anstatt 25 Prozent Wachstum nur 20 Prozent in den Büchern stehen.
Vor allem die EUV-Produktion ist das Aushängeschild. 55 Systeme will ASML in diesem Jahr fertigen und ausliefern – minus sechs bei der Buchung. Im Jahr 2021 wurden 42 EUV-Systeme gefertigt, die für 41 Prozent mehr Umsatz als im Jahr zuvor sorgten. Aber auch die Produktion von klassischen DUV-Systemen zog weiter an, mit 25 Prozent Wachstum auf fast 7 Milliarden Euro war sie gegenüber der EUV-sparte mit 6,3 Milliarden Euro Umsatz noch knapp führend.
Bei DUV hatte ASML aber mit Zulieferproblemen zu kämpfen, denn insgesamt ist die Menge hier deutlich größer: Über 100 ArF-Systeme sowie 130 KrF-Scanner wurden im Jahr 2021 verkauft. Die Auslieferungen an Scannern konnten dabei für DRAM-Chips leicht zulegen, bei den Ländern bleibt Taiwan als Abnehmer dank TSMC die Nummer 1.
Neubestellung von High-NA-EUV-System von Intel
Die Zukunft ist aber nicht nur „normales“ EUV, sondern High-NA EUV. In den Büchern von ASML steht seit diesem Quartal eine erste Bestellung eines kommenden EXE:5200, der Auftraggeber ist Intel. Im Rahmen der Bestellung wurden weitere Details zu der im Sommer bekannt gewordenen Kollaboration zwischen den beiden Firmen bekannt. Denn Intel ist hinter EUV mit High-NA (high numerical aperture) bereits seit Jahren hinterher, die ersten Systeme wurden bereits im Jahr 2018 bestellt. Die EXE:5000 werden aber primär für die Probe-Produktion gedacht sein, erst mit den EXE:5200 werden 200 Wafer pro Stunde angepeilt, sodass ein wirtschaftliches Arbeiten möglich ist. Dieses ist für das Jahr 2025 geplant.
Einmal mehr wird hier klar, dass Intel die vollkommen falsch gelaufene Entwicklung bei EUV im Konzern nicht noch einmal wiederholen will. Hier läuft der Hersteller der Konkurrenz weit hinterher, erst ab dem kommenden Jahr soll EUV überhaupt für ein Serienprodukt eingesetzt werden. Bei der nächsten Generation geht Intel nun ganz klar in die Flucht nach vorn.
The TWINSCAN EXE:5000 and EXE:5200 systems offer a 0.55 numerical aperture — a precision increase from previous EUV machines with a 0.33 numerical aperture lens — to enable higher-resolution patterning for even smaller transistor features. The numerical aperture of the system, combined with the wavelength used, determines the smallest printable feature.
Inklusive dem neuen System hat ASML bisher sechs Bestellungen für High-NA-EUV erhalten, erste Systeme sollen 2024 ausgeliefert werden. Mit Intel auf dem Gaspedal könnten weitere Aufträge folgen, auch durch Mitbewerber im Markt – das hofft natürlich auch ASML. Eine Order eines EXE:5000-Systems im vierten Quartal durch einen nicht genannten Kunden zeigt bereits, dass Interesse dort vorhanden ist. Bis dahin bleiben die Auftragsbücher aber gut gefüllt, allein im vierten Quartal wurden Neubestellungen für über 7 Milliarden Euro eingesammelt.